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真空鍍膜的成型原理
發(fā)布日期:2021-10-12  |  瀏覽次數(shù):116  |  分享到:
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 真空鍍膜是指在高真空條件下,通過加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)在鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面形成薄膜的方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新技術(shù)。簡而言之,在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物以固化并沉積在涂覆物體(稱為基材、基材或基底)上的方法稱為真空涂覆。

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